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高(gāo)級工(gōng)藝半導體産業仍遵循摩爾定律的發展要求,同時(shí)不斷同步督促電子特種氣體産業不斷發展。抛開(kāi)工(gōng)藝本身的難度不談,非工(gōng)藝技術的質量控制水(shuǐ)平将對(duì)未來(lái)電子特種氣體産業的适者生存起到(dào)決定性的作(zuò)用(yòng)。青島高(gāo)純氣體雜(zá)質說明(míng):
1.常規雜(zá)質:
H2、O2、N2、Ar、CO、CO2、CH4、H2O。
原料中難以分離物質。
2.特殊雜(zá)質:
顆粒物
油份
金(jīn)屬離子
污染同位素物質。
亞穩态物質污染。
3.雜(zá)質來(lái)源:
原料污染
原料雜(zá)質成分。
生産工(gōng)藝副産品。
工(gōng)藝失效污染。
4.過程污染:
環境帶入:空(kōng)氣成分(O2、N2、Ar、CO2)、水(shuǐ)分。
生産裝置、管道(dào)、充裝裝置帶入:水(shuǐ)、金(jīn)屬元素、顆粒物、油。
生産工(gōng)藝豐富。
包裝污染:殘留氣體污染。包裝本身帶入污染:水(shuǐ)分、金(jīn)屬元素、顆粒物。包裝内壁處理(lǐ)不合格。
分解聚合污染。
充裝過程污染:更換效率低(dī)。更換氣體污染。
真空(kōng)度不夠
以上(shàng)文(wén)章介紹了(le)高(gāo)純氣體本身雜(zá)質的基本組成。從(cóng)以上(shàng)結果可以看(kàn)出,單點質量控制法不能(néng)滿足質量穩定性和(hé)可靠性的要求,線性工(gōng)藝質量控制法不能(néng)有效監控産品周轉以外(wài)的因素。因此,綜合質量控制迫在眉睫。